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磁控溅射coinmarketcap交易所各种镀膜方式比较

    磁控溅射coinmarketcap交易所各种镀膜方式比较

    磁控溅射镀膜时一种使用物理气象沉积的一种设备,其不同的溅射方式有着不同的区别。

磁控溅射coinmarketcap交易所原理

    磁控溅射coinmarketcap交易所溅射分析表:

种 类

典型工艺参数

二极溅射

dc:1~7kv;0.15~1.5ma/cm2;rf:0.31~10kv;1~10w/cm2,真空镀1~10pa

三极或四极溅射

dc:0~2kv;rf:0~1kv;真空镀6×10-2~1×10-1pa

磁控溅射

dc:0.2~1kv;3~30w/cm2;真空镀:10-2~10-3pa

射频溅射

rf:0.3~10kv;0~12kv;频率:13.56mhz;真空镀1~10-1pa

离子束溅射

采用直流,真空镀:10-3pa


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